Lapping Wheels - Peter Wolters

Transcription

A Novellus Systems Company
COMPETENCE IN LAPPING AND POLISHING BY
Wentzky, Graessner, ABRALAP and JOKE
SINCE MORE THAN 75 YEARS
Verbrauchs- und Verschleißteilprogramm für
Einscheiben- Läpp- und Poliermaschinen
Product Range Wear Parts and Consumables for Single-Plate Lapping- and Polishing
Machines
Inhaltsverzeichnis / Contents
Läpp- und Polierwerkzeuge nach Kategorien
Lapping and Polishing Tools categories
Lappscheiben
Lapping Wheels
Polierscheiben
Polishing Wheels
Composite Polier-Läppscheiben
Composite Polishing-Lapping Wheels
Festkorn Flachhonscheiben / Poliertuch-Trägerscheiben
Grinding Wheels for Flat Honing / Base plate for Polishing Pads
Abrichtringe
Conditioning Rings
Aufnahmescheiben
Carrier Wheels
Ausgleichsscheiben / Belastungsplatten
Adapter Pads / Load Plates
Poliertücher
Polishing Pads
Läppmittel
Lapping Medium
Läppflüssigkeiten
Lapping Fluids
Diamantpulver
Diamond Powder
Diamantflüssigkeiten
Diamond Fluids
Diamantsprüheinrichtung Mikrospray I & II
Diamond Metering Unit Mikrospray I & II
Interferenzprüfgerät und Poliertisch
Interferometer and Polishing Table
Plangläser / Prüfblöcke
Optical Flat / Test Block
Ultraschallreinigungsgeräte
Ultrasonic Cleaning Units
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Läppscheiben werden grob in fünf Gruppen unterteilt:
Lapping wheels are roughly divided into three categories:
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Ungeglühte Läppscheiben:
Unannealed lapping wheels:
Gehärtete Läppscheiben:
Hardened lapping wheels:
Geglühte Läppscheiben/Polierscheiben:
Annealed lapping wheels:
Composite Polier-Läppscheiben:
z.B. Guss, weicher Stahl
e.g. Cast, Soft Steel
z.B. Gehärteter Guss, Hart-Keramik, gehärteter Stahl usw.
e.g. Hardened cast, hard ceramic, hardened steel etc.
z.B. Kupfer Zinn Kunststoffe, usw.
e.g. Copper, Tin, Plastics, etc.
Diese verbinden Merkmale des Läppens und Polierens in einer
Scheibe, Materialabtrag und Oberflächengüte. Bewerkstelligt
wird dies durch die Kombination mehrerer Metalle wie Guss
und Kupfer bzw. Guss und Zinn usw. in einem bestimmten
Verhältnis auf einer Scheibe.
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Composite Lapp/polishing wheels
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Festkornscheiben
Festkornscheiben
These plates serve the features of lapping and polis-hing in
once (Removal performance and surface quality). The cause of
these effect is an combination of several metals such as cast
iron, cupper and tin.
Siliziumcarbid zum Flachhonen
Siliziumcarbid for flat honing
Am gebräuchlichsten sind Läppscheiben mit einer radial ausgeführten Nutung, die für nahezu alle Bearbeitungsfälle eingesetzt werden können. Ungenutete Scheiben sind hingegen vorzuziehen, wenn sehr kleine Werkstücke
bearbeitet werden sollen, bei denen die Gefahr des Kippens besteht. Für die Bearbeitung von Glas und Wafern hat
sich die Waffelnutung bewährt.
The most common lapping wheels are those with radial grooves, which can be used for nearly all processing
cases. Ungrooved wheels however are preferable, if very small workpieces are to be processed, where a danger
of tumbling exists. The „wafer“ grooved wheel has proved to the best for processing glass and wafers.
Läppscheiben / Lapping wheels
Läppscheiben mit Härten von 140 - 220 HB haben sich in der Praxis als vorteilhaft erwiesen. Diese Härten erlauben das dauerhafte Einhalten von hoher Präzision, Planheit, Parallelität, Oberflächengüte und Maßgenauigkeit.
Abhängig von verschiedenen Bearbeitungsanforderungen gibt es verschiedene Ausführungen von Läppscheiben
bezüglich der Nutungen.
1 R 30 /1 R 300*
3 R 350*
3 R 380/EL 380*
3 R 40*
4 R 40*
3 R 50*
3 R 600*
4 R 70*
EL 700*
3 R 90 / 3 R 900*
4 R 900*
4 R 100*
EL 1000*
4 R 120**
EL 1200*
4 R 150**
EL 1500*
4 R 180**
EL 1800*
4 R 215**
GG ungenutet
Cast Iron unserrated
GG radial genutet
Cast Iron radial serrated
GG spiralgenutet
Cast Iron spiral serated
Stahl ungenutet
Steel unserrate
Stahl radial genutet
Steel radial serrated
Stahl spiralgenutet
Steel spiral serrated
Keramik ungenutet
Ceramic unserrated
Keramik radial genutet
Ceramic radial serrated
Keramik spiralgenutet
Ceramic spiral serrated
Glas ungenutet
Glas unserrated
Glas radial genutet
Glas radial serrated
Glas spiralgenute
Glas spiral serratd
Lapping wheels with a hardness of 140-200 HB have proven advantageous in practice. These degrees of hardness
allow long-term adherence to precision, flatness, parallelism, surface quality and dimensional precision. Dependent upon the various processing requirements, there are different types of lapping wheel, depending upon their
intended use.
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Polierscheiben / Polishing wheels
Das Polieren wird in erster Linie auf spiral genuteten Scheiben durchgeführt. Die Spiralnutung hat den Effekt,
dass sich das verhältnismäßig teure Polierkorn (Diamant) länger auf der Scheibe im Bearbeitungsprozess hält.
1 R 30 /1 R 300
3 R 350
3 R 380/EL 380*
3 R 40
4 R 40
3 R 50
3 R 600
4 R 70
EL 700
3 R 90 / 3 R 900
4 R 900
4 R 100
EL 1000
Kupfer ungenutet
Copper unserrated
Kupfer radial genutet
Copper radial serrated
Kupfer spiralgenutet
Copper spiral serrated
Zinn ungenutet
Tin unserrated
Zinn radial genutet
Tin radial serrated
Zinn spiralgenutet
Tin spiral serrated
Bronze ungenutet
Gunmetal unserrated
Bronze radial genutet
Gunmetal radial serrated
Bronze spiralgenutet
Gunmetal spiral serratd
Polishing is primarily carried out using wheels with a spiral groove. The spiral groove has the effect, that the
relatively expensive polishing abrasive (diamond) remains on the wheel for longer during the polishing process.
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Composite Polier- Läppscheiben
Composite Polishing- Lapping Wheels
Polier-Läppscheiben sind in Bereiche unterschiedlicher Härtegrade aufgeteilt.
Das aufgetragene Diamantkorn wird beim Überqueren der unterschiedlich harten Polierläppscheibenbereiche laufenden Geschwindigkeitsänderungen unterworfen. Aufgrund geringerer Scheibenhärte, im Vergleich zum Abrasiv
und zu bearbeitenden Werkstoff, drückt sich das Diamantkorn zum Teil in die Scheibe ein, und erzeugt gerichtete
Bearbeitungsspuren.
Der entscheidende Vorteil von Polierläppscheiben ist die Oberflächenbearbeitung in nur einem Arbeitsschritt bei
hohem Materialabtrag und gleichzeitiger Erzielung reflektierender Oberflächen.
1 R 30 /1 R 300
3 R 350
3 R 380/EL 380
3 R 40
4 R 40
3 R 50
3 R 600
4 R 70
EL 700
3 R 90 / 3 R 900
4 R 900
4 R 100
EL 1000
Hart ungenutet
Hard unserrated
Hart radial genutet
Hard radial serrated
Hart spiralgenutet
Hard spiral serrated
Medium ungenutet
Medium unserrated
Medium radial genutet
Medium radial serrated
Medium spiralgenutet
Medium spiral serrated
Weich ungenutet
Soft unserrated
Weich radial genutet
Soft radial serrated
Weich spiralgenutet
Soft spiral serratd
Polish-lapping wheels are divided in plates of different hardness.
While crossing the plate the diamond corn will rotate with different speed caused of different hard areas on the
plate. Compared to the lapping process the diamond corn will partly remain in the plate and finally polish the work
piece.
The main advantage of polish-lapping plates is an high stock removal and an reflecting surface in one step.
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1 R 30 /1 R 300
3 R 350
3 R 380/EL 380
3 R 40
4 R 40
3 R 50
3 R 600
4 R 70
EL 700
3 R 90 / 3 R 900
4 R 900
Hart ungenutet
Hard unserrated
Hart radial genutet
Hard radial serrated
Hart spiralgenutet
Hard spiral serrated
Medium ungenutet
Medium unserrated
Festkorn - Flachhonscheiben
Grinding Wheels for Flat Honing
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Poliertuch-Trägerscheiben
Base plates for polishing pads
Sind für alle Maschinengrößen bis 900 mm ab Lager erhältlich
Available ex stock for all machine sizes until 900 mm.
Abrichtringe /Conditioning rings
Selbsttätig mitlaufende Abrichtringe (angetrieben durch die Läppscheibe) oder zwangsgetriebene Abrichtringe
sichern stete Ebenheit der Läppscheibe. Die Abrichtringe werden seitlich durch Polyamidrollen, die in einem
Führungsarm gelagert sind, abgestützt.
•
Conditioning rings, which automatically run with the wheel (driven by the lapping wheel) or gear driven conditioning rings ensure flatness of the lapping wheel at all times. The conditioning rings are supported laterally by
polyamide rollers, which are in a guide arm.
•
Das Drehzahlverhältnis zwischen Abrichtring und Läppscheibe soll im Idealfall n = 1:1 betragen, wobei die Drehrichtung ebenfalls gleich sein muss.
Einen weiteren wichtigen Einfluss auf das Abrichtverhalten hat das Gewicht und die Größe der Abrichtringe. Je
größer die Auflagefläche der Ringe, desto größer der Abrichteffekt. Grundsätzlich muss darauf geachtet werden,
dass das Gewicht der Abrichtringe immer größer ist als das Werkstückgewicht pro Abrichtring, da sonst die
Läppscheibe nicht abgerichtet wird.
The speed ratio between lapping wheel and conditioning ring should ideally be n=1:1, Whereby the direction
of the ration should be the same. The weight and size of the conditioning rings also has a great influence on
the conditio-ning characteristics. The larger the surface contact area of the rings, the greater the conditioning
effect. It is of fundamental importance that the weight of the conditioning rings is always greater than that of
the work piece weight per conditioning ring, otherwise the lapping wheel will not be trued.
•
1 R 30 /1 R 300
3 R 350
3 R 380/EL 380
3 R 40
4 R 40
3 R 50
3 R 600
4 R 70
EL 700
3 R 90 / 3 R 900
4 R 900
4 R 100
EL 1000
4 R 120
EL 1200
4 R 150
EL 1500
4 R 180
EL 1800
4 R 215
GG ungenutet
Cast Iron unserrated
GG radial genutet
Cast Iron radial serrated
Stahl ungenutet
Steel unserrated
Stahl radial genutet
Steel radial serrated
Edelstahl Keramik bestückt
Stainless Steel Ceramic equipped
Feuerverzikt Keramik bestückt
Galvanized Steel Ceramic equipped
Edelstahl Kunststoff bestückt
Stainless Steel Plastic equipped
Feuerverzikt Kunstoff bestückt
Galvanized Steel Plastic equipped
Bronze genutet
Gunmetal serratd
Rollenführung
polyamid rollers
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Not available
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Aufnahmescheiben
Carrier wheels
Aufnahmescheiben dienen dazu die
Werkstücke auf der Läppscheibe zu
führen.
Bei der Bestückung der Aufnahmescheiben ist darauf zu achten, dass
die Aufnahmescheibe im Zentrum
nicht bestückt wird (siehe auch „Verschleiß der Läppscheibe und Abrichtringe“).
•
Die Werkstückaufnahme erfolgt in den Abrichtringen, je
nach Geometrie und Eigengewicht in speziell adaptierten
Sonderaufnahmen oder Vorrichtungen. Diese Aufnahmevorrichtungen entsprechen der Größe des Innendurchmessers der Abrichtringe. Die darin eingebrachten
Aussparungen haben die Außenkontur des Werkstückes.
Diese Aufnahmeschablonen sind aus unterschiedlichen Materialien, zumeist aus
Kunststoff (PVC) oder
Metall gefertigt.
The carrier wheels serve to guide the
work piece onto the lapping wheel.
When charging the carrier wheel, attention must be paid to the fact that
no work piece are located near the
centre, (see also „Lapping wheel an
conditioning ring wear“)
•
The workpieces are
placed within the conditioning rings and
dependent upon geometry and own weight,
in specially adapted
frames or devices.
These frames correspond to the size of the
inside diameter of the conditioning rings. The
cut-out portion matches the contour of the
workpiece. These carrier templates
are manufactured from various
materials but mainly plastic(PVC)
or metal.
Diese Aufnahmescheiben sind
erhältlich in den Stärken 1, 2, 3, 4,
und 5 mm
• Die Bearbeitung von Großbauteilen erfolgt außerhalb der Abrichtbzw. Aufnahmeringe, wobei grundsätzlich
ein Abrichtring zum Abrichten der Läppscheibe
und zur Verteilung des Läppmittels auf der
Läppscheibe verbleiben muss.
•
These carrier plates are available
with 1, 2, 3, 4, and 5mm thickness
Larger workpieces are processed outside the conditioning rings or carrier rings respectively, whereby one conditioning ring must be allowed to remain on the lapping
wheel in order to condition the lapping wheel and distribute the lapping medium.
Ausgleichsscheiben
Adapter Pads
Scheiben aus Moosgummi bzw. Filz haben die Aufgabe Höhenunterschiede der Werkstücke auszugleichen. Diese Ausgleichsscheiben
sind für alle Größen von Maschinen ab Lager lieferbar
The purpose of Disc made of rubber or felt is to cover the thicknesstolerances of the work pieces. These Adapterplates are available
from stock for all sizes of machines.
Belastungsplatten
Load plates
Belastungsplatten aus Guß und Edelstahl sind für alle Größen von
Maschinen lieferbar
Load plates made of cast iron or stainless stell are available from
stock for all types of machines
Poliertücher
Polishing pads
Um reflektierende Oberflächen zu erzielen, ist es notwendig, mit besonderen Werkzeugen zu arbeiten.
Zu diesem Zwecke werden Poliertuchträgerscheiben mit Poliertüchern belegt. Verwendet werden Materialien,
wie beispielsweise
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Seide
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Kunststofffaser
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Polyurethan
Abhängig vom gewünschten Arbeitsergebnis werden Poliertücher eingesetzt die z.B. genoppt, gewirkt oder auch
gepresst sind.
Für metallographische Anwendungen stehen Ihnen SIC-Naßschleifpapiere in den Körnungen 180-1200 zur Verfügung.
Durchmesser/mm
Diameter/mm
305 mm
365 mm
381 mm
406 mm
450 mm
500 mm
635 mm
701 mm
915 mm
Andere Abmaße
Other dimensions
Typ DP-DUR
Type DP-DUR
Typ Pellon
Type Pellon
Typ PW 9450
Type PW 9450
TypPW 410
Type PW 410
Typ PW 415
Type PW 415
Typ PW 430
Type PW 430
Typ PW 432
Type PW 432
Typ PW 434
Type PW 434
Typ PW 435
Type PW 435
Typ PW 437
Type PW 437
Typ PW 444
Type PW 444
Typ PW 450
Type PW 450
Typ PW 600
Type PW 600
Typ PW 905-K
Type PW 905-K
Typ PW 910-K
Type PW 910-K
Polyurethan LP 66
Polyurethan LP 66
To reach the highest surface quality an special tool is necessary.
There for an base plates will be covered with polishing cloth. For final polish will be used materials as:
·
silk
·
Synthetic fibre
·
Polyurethane
Depending on the required surface quality different polishing cloth will be used for instance: polishing cloth with
nap pattern, weaved and pressed surface.
For metallographic use we provide SIC wet polishing paper grid size 180-1200.
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Läppmittel
Lapping medium
Läppkorn + Läppflüssigkeit
Lapping grain and -fluid
Die Wahl des eingesetzten Läppkorns hängt von dem zu bearbeitenden Werkstoff ab. Die Größe des Kornes im
Läppmittel richtet sich nach den Anforderungen an die Oberflächenrauhigkeit. Je nach Härte des zu bearbeitenden
Werkstoffes setzt man Edelkorund (Aluminiumoxyd), Siliziumkarbid, Borkarbid oder Diamantkorn ein. Die Oualitätskriterien für das Läppkorn sind die Korngröße, Kornverteilung, die Kornhärte sowie die Kornschärfe und
die Anzahl der Kanten. Die Korngröße wird entsprechend der gewünschten Rautiefe am Werkstück sowie der
Materialabtragsleistung ausgewählt. Die gebräuchlichsten Läppkorngrößen nach Mesh sind 400, 500, 600 und
800.
The choice of lapping abrasive depends upon the material to be processed. The lapping abrasive grain size is
determined by the degree of the surface roughness required. Depending upon the hardness of the material to be
processed, the following lapping abrasives can be used; special fused alumina (aluminium oxide), silicone carbide,
boron carbide or diamond corn. The quality criteria for the lapping abrasive are the grain size, grain distribution,
grain hardness, as well as the grain sharpness and number of edges.
The grain size is chosen according to the surface roughness desired and the stock removal performance required.
The most common lapping grain sizes according to mesh size are 400, 500, 600 and 800.
Läppkorn / Lapping grain:
Bearbeitungswerkstoffe / Material to be processed:
Aluminiumoxidpulver: z.B. Halbleitermaterialien (Silizium, Germanium),
Kohle, Guss, Buntmetalle (Kupfer, Bronze)
Aluminium oxid powder:
e.g. Semi-conductor material (Silicon, Germanium)
Siliziumkarbid (SIC): z.B. gehärteter und legierter Stahl, Porzellan, Glas
Silicium carbide (SIC) e.g. Hardened or alloyed steel, Porcelain, Glass
Borkarbid:
z.B. Keramik, Hartmetall
Boron carbide: e.g. Ceramics, Hart metals
Diamant:
z.B. Keramik, Hartmetall, Saphir
Diamond:
e.g. Ceramics, Hard metals
Grundsätzlich ist eine höhere Konzentration an Läppkorn sehr vorteilhaft, um den sogenannten „AquaplaningEffekt“ (Flüssigkeitskeil und damit kein Spanabtrag) zu vermeiden. Das Mischungsverhältnis zwischen Läppkorn
und Läppflüssigkeit sollte etwa 150 - 200 g/L betragen. Ein richtig gewähltes Mischungsverhältnis zeichnet sich
während der Bearbeitung durch einen mattgrauen Läppfilm aus.
Fundamentally, a higher concentration of lapping grain is advantageous, in order to prevent the so called „aquaplaning effect“. The mixing ratio of the lapping grain to lapping fluid should be appr. 150-200 g/litre. The correct
mixing ratio forms a distinguishable grey lapping film during processing. When using water based lapping fluid,
the fluids, the mixing ratio should be increase to 300 g/litre. In addition to the lapping medium concentration, the
viscosity and quantity of lapping medium applied also have an influence on the „aquaplaning effect“!
Bei Verwendung von Läppflüssigkeiten auf Wasserbasis sollte das Mischverhältnis auf 300 g/L erhöht werden.
Neben der Läppmittelkonzentration hat auch die Viskosität und Menge der Läppflüssigkeit Einfluss auf den „Aquaplaning-Effekt“ !
When using water based lapping fluid, the fluids, the mixing ratio should be increase to 300 g/litre. In addition
to the lapping medium concentration, the viscosity and quantity of lapping medium applied also have an influence
on the „aquaplaning effect“!
Soll der Prozess auf eine andere Korngröße oder ein anderes Kornmaterial umgestellt werden, ist es unbedingt
erforderlich, das Läppmittelzuführungssystem und den gesamten Arbeitsbereich zu säubern. Dies gilt besonders
bei einem Wechsel auf ein feineres Korn.
If the process is switched to a different grain size or abrasive material, it is of the utmost importance that the
lapping medium supply system and working environment are thoroughly cleaned. This is particularly true, when
changing to a smaller grain size.
t
Korund /Aluminium oxide
KG 10 / PWE24
KM 10 / PWE25
KM 20 / PWE12
KF 10
KF 20 / PWE9
KE 10 / PWE7
grob coarse
mittel medium
mittel medium
fein fine
fein fine
extra fein extra fine
20 - 24
15 - 18
12 - 15
9 - 12
7-9
5-7
360
400
500
600
800
900
4 µm
2 µm
0,8 µm
0,6 µm
0,5 µm
0,4 µm
SG 05
SG 10 / PWS40
SG 20 / PWS32
SM 10
SM 20 / PWS18
SM 30 / PWS15
SF 10 / PWS11
SF 20 / PWS9
SE 10 / PWS6
SE 20 / PWS4
grob coarse
grob coarse
grob coarse
mittel medium
mittel medium
mittel medium
fein fine
fein fine
40 - 50
35 - 40
27 - 32
21 - 25
15 - 18
12 - 15
8 - 11
6-9
4-6
2-4
220
280
320
360
400
500
600
800
900
950
7,5 µm
5,0 µm
5,0 µm
3,5 µm
2,0 µm
1,5 µm
1,0 µm
0,8 µm
0,6 µm
0,4 µm
BG 10
BG 20 / PWB32
BM 10
BM 20 / PWB18
BF 10 / PWB12
BF 20 / PWB9
BE 10 / PWB6
BE 20 / PWB4
grob coarse
grob coarse
mittel medium
mittel medium
fein fine
fein fine
extra fein
extra fein
35 - 40
27 - 32
21 - 25
15 - 18
8 - 12
6-9
4-6
2-4
280
320
360
400
600
800
900
950
7,5 µm
5,0 µm
4,0 µm
2,0 µm
1,0 µm
0,8 µm
0,6 µm
0,4 µm
Siliziumkarbid
Borkarbid
Weiterhin bieten wir folgende Läppmittel in verschiedenen Gebinden an
Further more we offer lapping abrasives in different sizes and packing.
Bimsmehl
Cerium Oxyd
Linde A
Linde B
Linde C
Poliertonerde
Pumice powder
Cerium oxyde
Al2 O3
Läppflüssigkeiten /
Lapping fluids
Läppflüssigkeiten erfüllen beim Läppprozeß folgende Funktionen:
Lapping fluids fulfil the following functions during the lapping process:
•
Sie fördern das Läppkorn auf die Läppscheibe
•
They transport the lapping grains onto the lapping wheel
•
Sie dienen als Trägermedium und Gleitflüssigkeit. Trockenes Reiben der Werkstücke auf der Läppscheibe,
das zur Kratzerbildung führen könnte, wird bei richtigem Mischungsverhältnis vermieden.
•
They serve as both a carrier medium and lubricant. Dry friction of the workpiece against the lapping
wheel, which leads to scratches being caused, can be prevented by using the correct mixing ratio.
•
Sie kühlen die Läppscheibe während des Prozesses.
•
They cool the lapping wheel during the process.
Grundsätzlich gilt:
Fundamental rule:
grobes Läppkorn = hohe Viskosität feines Läppkorn = geringe Viskosität
large grain lapping abrasive = high viscosity. Small grain lapping abrasive = low viscosity
Für die Bearbeitung von Kohlegleitringen sollte Wasser als Läppflüssigkeit verwendet werden, da Öl aus der
Kohle nicht mehr eliminiert werden kann.
Water should be used as the lapping fluid when processing carbon slips rings, as oil can not be subsequently
eliminated from the carbon.
Läpp- und Polierflüssigkeiten / Lapp & Polishing fluids
Läppflüssigkeit öllöslich / Lapping fluid oil-soluble
Läppflüssigk.-Konzentrat / Lapping fluid water-soluble
Polierflüssigkeit / Polishing fluid oil-soluble
Alkohol 641 (Ethanol) / Alcohol
Nr. 20
WL 6
OL 5 / OL 10 / K 35
641
Reiniger etc. / Cleaner etc.
Phosphatierungsmittel/Keramikreiniger/Entroster
Phosphatizer / Ceramic cleaner / Deruster
Ultraschallreiniger / Ultrasonic cleaner
Entschäumer / Defoaming agent
Schnellentfetter / Degreaser
Korrosionsschutz / Anticorrosion agent
Entroster / Kriechöl / Deruster / Penetrating oil
Destilliertes Wasser / distilled water
Kaltreiniger / Cold cleaner
PB-C
PW200
79/133
Supra X
MX 500
K 30
Diamantpulver /
Diamond powder
Zum Läppen bzw. Polieren werden heute meist 2 Sorten von industriell hergestellten Diamanten eingesetzt:
Monokristalline und Polykristalline
Im Gegensatz zu Monokristallinen Diamanten besteht der Polykristalline Diamant aus vielen Schneiden, die durch
Druckbeaufschlagung frei werden. Der Monokristalline Diamant hingegen verfügt meist nur über wenige Schneidkanten, die eine relativ hohen Druck benötigen um in Werkstoffe einzudringen und Material abzutragen. Nur durch
hohen Druck oder durch Ausspülen des gesamten Kornes können stumpfe Körner geschärft bzw. entfernt werden.
Das bedeutet, dass polykristalline Diamanten sich durch eine deutlich besseres Schneidverhalten über einen
wesentlich längeren Zeitraum. Hierdurch können die Druckverhältnisse lange gleich und relativ niedrig gehalten
werden und der Verbrauch von Diamant reduziert sich deutlich. (Siehe Bilder 1-4)
Today usually 2 sorts of industrially manufactured diamonds are used:
Monocrystalline and polycrystalline
Contrary to monocrystalline diamonds the polycrystalline diamond consists of many cutting edges which become
free by pressurizing. The monocrystalline diamond however has usually only few cutting edges which need a
relatively high pressure to penetrate into materials and remove material. Only through high pressure or by rinsing out the hole grain blunt grains can be sharpened and or removed. That means that polycrystalline diamonds
emphasize themselves by clearly better cutting behaviour during a substantially longer period. Thereby the pressure ratios can be kept for a long time same and relatively low which results in a substantially reduction of
diamond consumption. (see picture 1-4)
Bild 1:
Monokristalliner Diamant mit wenigen Schneiden.
Großer Druck ist erforderlich um
neue, wenige Schneiden zur generieren.
Picture 1:
Monocristalline
Bild 3:
Polykristalliner Diamant mit vielen
Schneiden.
Mäßiger Druck ist erforderlich um
viele neue Schneiden zur generieren.
Picture 3:
Bild 2:
Mikroskopische Aufnahme eines
Monokristallinen Diamanten. Nur
wenige Schneiden sind ausgebildet.
Picture 2:
Bild 4:
Mikroskopische Aufnahme eines
Polykristallinen Diamanten. Viele
Schneiden sind ausgebildet.
Picture 4:
Diamantpulver /
Diamond powder
Die präzise Klassierung in feinabgestufte Körnungen und die einzigartige Konstanz von Los zu Los machen in
vielen Anwendungen den entscheidenden Unterschied aus. Das heißt, die Diamantpulver die von Peter Wolters
zum Einsatz gebracht werden garantieren immer ein gleichbleibendes Ergebnis in puncto Oberflächengüte und
Abtragsleistung.
The precise grading in fine stepped grain sizes and the unique constancy from batch to batch making the decisive
difference for many applications. That means, the diamond powders offered by Peter Wolters guarantee a always
constant resultas regards of surface quality and stock removal.
Folgende Kriterien zeichnen ein erstklassiges Diamantpulver aus:
Agglomeratfreiheit:
Ausschließung von Zusammenballungen durch Adhäsion / Sinterung
(Bild 4 + 5)
Gleichmäßige, blockige Körner
Keine Nadelbildung, Körner in gleichbleibender, konstanter Form
und Größe (Bild 6+7)
Fein abgestufte Klassifizierung der Körner
Gewährleistung eines, in sehr engen Bandbreiten, wiederholbaren Ergebnisses in Punkto Oberflächengüte.
Following criteria distinguish a first class diamond powder:
Agglomerate absence:
Exclusion of agglomeration through adhesion / sintering of the
diamond particles (Picture 4 + 5)
Uniform grains:
Exclusion of needle forming, grains in uniform shape and size
(Picture 6 + 7)
Precise grading of the grain in fine steps: Repeatable surface quality ensured by grains graded in fine steps
Bild 5:
Verklumpung des Diamantkorns.
„Agglomeratbildung“
Folge: Kratzer, schlechte Oberfläche.
Bild 6:
Agglomeratfreies Diamantpulver
Folge: Kratzerfreie, gleichmäßige Oberfläche
Picture 5:
agglutination of the diamond grais.
„Agglomeration“
Consequence: scratches, bad surface.
Picture 6:
Agglomerate free Diamond powder
Consequence: scratch free, even surface
D iam o n d Size (M ic ro n )
Bild 8-9:
Links: grobe Klassierung
Picture 8-9:
Left: rough grading
Diamond Size Distribution
Bild 6 + 7:
Absolut gleichförmige Blockige Diamantkörner (Monokristalliner Diamant Typ MSY 6-10 + MSY 15-25)
Picture 6 + 7:
Absolute uniform diamond grains (monocrystalline diamond type MSY 6-10 + MSY 15-25)
Diamond Size (Micron)
Diamond Size (Micron)
Mitte: feine Klassierung (Peter Wolters)
Rechts: Vergleich
Center: fine grading (Peter Wolters)
Right: comparison
DP
Polykristallin-synthetischer Diamant
Präzisions-Kornreihe für höchste Anforderungen an Oberflächengüte und Abtragsrate.
Enge Toleranzen.
polycrystalline synthetic diamond, precision size range
FG
Polykristallin-synthetischer Diamant
Standart-Kornreihe für allgemeine Läpp- / Polieranwendungen, gute Abtragsleistung
polycrystalline synthetic diamond, standard size range
standard grain for normal lapping/ polishing, good stock removal
MSY Monokristallin-synthetischer Diamant
monocrystalline synthetic diamond
Polykristallin Korngröße in µm
Polycrystalline Grain size in µm
DP
0-0,05
DP
0-0,06
DP
0-0,08
DP
0-0,1
DP
0-0,15
DP
0-0,2
DP
0-0,25
DP
0-0,35
DP
0-0,5
DP
0,25-0,5
DP
0,25-0,75
DP
0,5-1
DP
0,5-1,5
DP
0,75-1,25
DP
1-1,5
DP
1-2
DP
1,25-2,25
DP
1,5-2,5
DP
2-3 (1,5-3)
DP
2-4
DP
2,25-3,5
DP
2,5-4
DP
3-5
DP
4-6
DP
4,5-7
DP
4-8 (5,5-8)
DP
5,5-8
DP
6-10
DP
8-12
DP
8-15
DP
10-16
DP
10-20
DP
20-40
Polykristallin
Korngröße in µm
Polycrystalline Grain size in µm
FG
0,25
FG
0,5
FG
1
FG
1,5
FG
2
FG
3
FG
4
FG
5
FG
6
FG
9
FG
12
FG
15
FG
30
FG
45
Monokristallin Korngröße in µm
Monocristalline Grain size in µm
MSY
0-0,05
MSY
0-0,1
MSY
0-0,15
MSY
0-0,2
MSY
0-0,25
MSY
0-0,35
MSY
0-0,5
MSY
0,25-0,5
MSY
0,25-0,75
MSY
0,5-1
MSY
0,75-1,25
MSY
1-1,5
MSY
1-2
MSY
1,25-2,25
MSY
1,5-2,5
MSY
1,5-3
MSY
2,25-3,5
MSY
2-4
MSY
3-5
MSY
3-6
MSY
4,5-7
MSY
4-6
MSY
4,5-7
MSY
5,5-8
MSY
6-10
MSY
8-12
MSY
10-16
MSY
10-20
MSY
15-25
MSY
20-30
MSY
20-40
MSY
30-40
MSY
35-45
MSY
40-60
MSY
50-70
Diamantflüssigkeiten / Diamond fluids
Beim Polieren von Oberflächen mit Korngrößen unter 1 Mikron sind Agglomerate die Hauptursache für Kratzer.
Agglomerate sind harte „Cluster“ von Diamant-Partikeln, die oft 10- bis
20-mal grösser sind als das einzelne Korn.
OWS-DP, ME-Emulsion und MG-Emulsionen bestehen aus wasser- oder
öllöslicher Trägerflüssigkeit mit im Wasser dispergierten, agglomeratfreien Mono- oder Polykristallinen Körnungen. Diese Diamantflüssigkeiten
gewährleisten daher ein größtmögliche Wiederholbarkeit einmal erzielter
Werte.
In ultra-fine polishing applications in diamond sizes below 1 mikron,
agglomerates are the main cause for scratched surfaces or inconsistent
polishing result. Agglomerates are cluster of undispersed diamond particles, often 10 or 20 times the size of an individual particle.
OWS-DP, ME-slurries and MG-slurries consist of water- or oilsoluable Fluid mixed with monocristalline or polycrystalline diamond. These diamondfluids ensure therefore a maximum of reproducibility of quality achievement.
Diamant-Emulsionen Monokristallin (öl-löslich)
Diamond Emulsions monocristalline (oil soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
265022
ME-131
20-40 µm
500 g
265023
ME-131
20-40 µm
1000 g
265024
ME-132
10-20 µm
500 g
265025
ME-132
10-20 µm
1000 g
265030
ME-134
8,0-12 µm
500 g
265031
ME-134
8,0-12 µm
1000 g
265034
ME-135
6,0-10 µm
500 g
265035
ME-135
6,0-10 µm
1000 g
265042
ME-142
5,5-8 µm
500 g
265043
ME-142
5,5-8 µm
1000 g
265046
ME-143
2,5-4 µm
500 g
265047
ME-143
2,5-4 µm
1000 g
265050
ME-144
1,5-3 µm
500 g
265051
ME-144
1,5-3 µm
1000 g
265054
ME-145
1,0-2 µm
500 g
265055
ME-145
1,0-2 µm
1000 g
265058
ME-146
0,5-1 µm
500 g
265059
ME-146
0,5-1 µm
1000 g
Selbstverständlich liefern wir auch viele weitere
Diamantflüssigkeiten, aber auch Diamantpasten und
Sticks.
Fragen Sie uns! Wir haben für jedes Problem die richtige Lösung.
For other grain sizes on diamond fluids, diamond sticks
or diamond pastes do not hesitate to contact us.
We have for every application the right solution!
Diamant-Suspensionen Monokristallin (wasserlöslich)
Diamond Suspensions monocristalline (water soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
265062
MG-331
20-40 µm
500 g
265063
MG-331
20-40 µm
1000 g
265064
MG-332
10-20 µm
500 g
265065
MG-332
10-20 µm
1000 g
265070
MG-334
8,0-12 µm
500 g
265071
MG-334
8,0-12 µm
1000 g
265072
MG-335
6,0-10 µm
500 g
265073
MG-335
6,0-10 µm
1000 g
265026
MG-342
5,5-8 µm
500 g
265027
MG-342
5,5-8 µm
1000 g
265032
MG-343
2,5-4 µm
500 g
265033
MG-343
2,5-4 µm
1000 g
265036
MG-344
1,5-3 µm
500 g
265037
MG-344
1,5-3 µm
1000 g
265040
MG-345
1,0-2 µm
500 g
265041
MG-345
1,0-2 µm
1000 g
265044
MG-346
0,5-1 µm
500 g
265045
MG-346
0,5-1 µm
1000 g
Polykristallin Polycristalline
261778
OWS-DP
0-0,25 µm
50 g
261781
OWS-DP
0,25-0,5 µm
200 g
261767
OWS-DP
0,75-1,5 µm
50 g
261777
OWS-DP
1,5-2,5 µm
50 g
261779
OWS-DP
1,5-2,5 µm
200 g
262761
OWS-DP
2-3,0 µm
200 g
261768
OWS-DP
2,25-3,5 µm
50 g
261782
OWS-DP
2,25-3,5 µm
200 g
261776
OWS-DP
2,5-4 µm
50 g
261769
OWS-DP
2,5-4 µm
200 g
262348
OWS-DP
4-6,0 µm
200 g
261780
OWS-DP
8-15,0 µm
200 g
262799
OWS-DP
15-30 µm
200 g
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
PW30MCOS
20-40 µm
400 gr
PW30MCOS
20-40 µm
1.000 gr
PW30MCOS
20-40 µm
5.000 gr
PW30MCOS
20-40 µm
10.000 gr
PW15MCOS
10-20 µm
400 gr
PW15MCOS
10-20 µm
1.000 gr
PW15MCOS
10-20 µm
5.000 gr
PW15MCOS
10-20 µm
10.000 gr
PW9MCOS
8-12 µm
400 gr
PW9MCOS
8-12 µm
1.000 gr
PW9MCOS
8-12 µm
5.000 gr
PW9MCOS
8-12 µm
10.000 gr
PW6MCOS
5,5-8 µm
400 gr
PW6MCOS
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6MCOS
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6MCOS
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3MCOS
2,5-4 µm
400 gr
PW3MCOS
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3MCOS
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3MCOS
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2MCOS
1,5-3 µm
400 gr
PW2MCOS
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2MCOS
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2MCOS
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1MCOS
1-2 µm
400 gr
PW1MCOS
1-2 µm
1.000 gr
PW1MCOS
1-2 µm
5.000 gr
PW1MCOS
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5MCOS
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5MCOS
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5MCOS
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5MCOS
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Suspensionen Monokristallin (wasserlöslich)
Diamond Suspensions monocristalline (water soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
PW30MCWS
20-40 µm
400 gr
PW30MCWS
20-40 µm
1.000 gr
PW30MCWS
20-40 µm
5.000 gr
PW30MCWS
20-40 µm
10.000 gr
PW15MCWS
10-20 µm
400 gr
PW15MCWS
10-20 µm
1.000 gr
PW15MCWS
10-20 µm
5.000 gr
PW15MCWS
10-20 µm
10.000 gr
PW9MCWS
8-12 µm
400 gr
PW9MCWS
8-12 µm
1.000 gr
PW9MCWS
8-12 µm
5.000 gr
PW9MCWS
8-12 µm
10.000 gr
PW6MCWS
5,5-8 µm
400 gr
PW6MCWS
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6MCWS
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6MCWS
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3MCWS
2,5-4 µm
400 gr
PW3MCWS
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3MCWS
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3MCWS
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2MCWS
1,5-3 µm
400 gr
PW2MCWS
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2MCWS
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2MCWS
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1MCWS
1-2 µm
400 gr
PW1MCWS
1-2 µm
1.000 gr
PW1MCWS
1-2 µm
5.000 gr
PW1MCWS
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5MCWS
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5MCWS
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5MCWS
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5MCWS
0,5-1 µm
10.000 gr
Gewicht
Id. Nr.
Typ
Körnung
Weight
Order No.
Type
Grain size
PW30MCOSOL5
20-40 µm
400 gr
PW30MCOSOL5
20-40 µm
1.000 gr
PW30MCOSOL5
20-40 µm
5.000 gr
PW30MCOSOL5
20-40 µm
10.000 gr
PW15MCOSOL5
10-20 µm
400 gr
PW15MCOSOL5
10-20 µm
1.000 gr
PW15MCOSOL5
10-20 µm
5.000 gr
PW15MCOSOL5
10-20 µm
10.000 gr
PW9MCOSOL5
8-12 µm
400 gr
PW9MCOSOL5
8-12 µm
1.000 gr
PW9MCOSOL5
8-12 µm
5.000 gr
PW9MCOSOL5
8-12 µm
10.000 gr
PW6MCOSOL5
5,5-8 µm
400 gr
PW6MCOSOL5
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6MCOSOL5
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6MCOSOL5
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3MCOSOL5
2,5-4 µm
400 gr
PW3MCOSOL5
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3MCOSOL5
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3MCOSOL5
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2MCOSOL5
1,5-3 µm
400 gr
PW2MCOSOL5
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2MCOSOL5
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2MCOSOL5
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1MCOSOL5
1-2 µm
400 gr
PW1MCOSOL5
1-2 µm
1.000 gr
PW1MCOSOL5
1-2 µm
5.000 gr
PW1MCOSOL5
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5MCOSOL5
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5MCOSOL5
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5MCOSOL5
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5MCOSOL5
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Emulsionen Monokristallin (Alkoholbasierend)
Diamond Emulsions monocristalline (alcohol based)
Gewicht
Id. Nr.
Typ
Körnung
Weight
Order No.
Type
Grain size
PW30MCALCDW
20-40 µm
400 gr
PW30MCALCDW
20-40 µm
1.000 gr
PW30MCALCDW
20-40 µm
5.000 gr
PW30MCALCDW
20-40 µm
10.000 gr
PW15MCALCDW
10-20 µm
400 gr
PW15MCALCDW
10-20 µm
1.000 gr
PW15MCALCDW
10-20 µm
5.000 gr
PW15MCALCDW
10-20 µm
10.000 gr
PW9MCALCDW
8-12 µm
400 gr
PW9MCALCDW
8-12 µm
1.000 gr
PW9MCALCDW
8-12 µm
5.000 gr
PW9MCALCDW
8-12 µm
10.000 gr
PW6MCALCDW
5,5-8 µm
400 gr
PW6MCALCDW
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6MCALCDW
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6MCALCDW
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3MCALCDW
2,5-4 µm
400 gr
PW3MCALCDW
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3MCALCDW
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3MCALCDW
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2MCALCDW
1,5-3 µm
400 gr
PW2MCALCDW
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2MCALCDW
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2MCALCDW
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1MCALCDW
1-2 µm
400 gr
PW1MCALCDW
1-2 µm
1.000 gr
PW1MCALCDW
1-2 µm
5.000 gr
PW1MCALCDW
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5MCALCDW
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5MCALCDW
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5MCALCDW
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5MCALCDW
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Emulsionen Polykristallin (öl-löslich)
Diamond Emulsions polycristalline (oil soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
PW30PCOS
20-40 µm
400 gr
PW30PCOS
20-40 µm
1.000 gr
PW30PCOS
20-40 µm
5.000 gr
PW30PCOS
20-40 µm
10.000 gr
PW15PCOS
10-20 µm
400 gr
PW15PCOS
10-20 µm
1.000 gr
PW15PCOS
10-20 µm
5.000 gr
PW15PCOS
10-20 µm
10.000 gr
PW9PCOS
8-12 µm
400 gr
PW9PCOS
8-12 µm
1.000 gr
PW9PCOS
8-12 µm
5.000 gr
PW9PCOS
8-12 µm
10.000 gr
PW6PCOS
5,5-8 µm
400 gr
PW6PCOS
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6PCOS
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6PCOS
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3PCOS
2,5-4 µm
400 gr
PW3PCOS
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3PCOS
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3PCOS
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2PCOS
1,5-3 µm
400 gr
PW2PCOS
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2PCOS
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2PCOS
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1PCOS
1-2 µm
400 gr
PW1PCOS
1-2 µm
1.000 gr
PW1PCOS
1-2 µm
5.000 gr
PW1PCOS
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5PCOS
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5PCOS
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5PCOS
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5PCOS
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Suspensionen Polykristallin (wasserlöslich)
Diamond Suspensions polycristalline (water soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
PW30PCWS
20-40 µm
400 gr
PW30PCWS
20-40 µm
1.000 gr
PW30PCWS
20-40 µm
5.000 gr
PW30PCWS
20-40 µm
10.000 gr
PW15PCWS
10-20 µm
400 gr
PW15PCWS
10-20 µm
1.000 gr
PW15PCWS
10-20 µm
5.000 gr
PW15PCWS
10-20 µm
10.000 gr
PW9PCWS
8-12 µm
400 gr
PW9PCWS
8-12 µm
1.000 gr
PW9PCWS
8-12 µm
5.000 gr
PW9PCWS
8-12 µm
10.000 gr
PW6PCWS
5,5-8 µm
400 gr
PW6PCWS
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6PCWS
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6PCWS
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3PCWS
2,5-4 µm
400 gr
PW3PCWS
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3PCWS
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3PCWS
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2PCWS
1,5-3 µm
400 gr
PW2PCWS
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2PCWS
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2PCWS
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1PCWS
1-2 µm
400 gr
PW1PCWS
1-2 µm
1.000 gr
PW1PCWS
1-2 µm
5.000 gr
PW1PCWS
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5PCWS
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5PCWS
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5PCWS
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5PCWS
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Emulsionen Polykristallin (öl-löslich)
Diamond Emulsions polycristalline (oil soluble)
Id. Nr.
Typ
Körnung
Gewicht
Order No.
Type
Grain size
Weight
PW30PCOSOL5
20-40 µm
400 gr
PW30PCOSOL5
20-40 µm
1.000 gr
PW30PCOSOL5
20-40 µm
5.000 gr
PW30PCOSOL5
20-40 µm
10.000 gr
PW15PCOSOL5
10-20 µm
400 gr
PW15PCOSOL5
10-20 µm
1.000 gr
PW15PCOSOL5
10-20 µm
5.000 gr
PW15PCOSOL5
10-20 µm
10.000 gr
PW9PCOSOL5
8-12 µm
400 gr
PW9PCOSOL5
8-12 µm
1.000 gr
PW9PCOSOL5
8-12 µm
5.000 gr
PW9PCOSOL5
8-12 µm
10.000 gr
PW6PCOSOL5
5,5-8 µm
400 gr
PW6PCOSOL5
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6PCOSOL5
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6PCOSOL5
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3PCOSOL5
2,5-4 µm
400 gr
PW3PCOSOL5
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3PCOSOL5
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3PCOSOL5
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2PCOSOL5
1,5-3 µm
400 gr
PW2PCOSOL5
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2PCOSOL5
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2PCOSOL5
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1PCOSOL5
1-2 µm
400 gr
PW1PCOSOL5
1-2 µm
1.000 gr
PW1PCOSOL5
1-2 µm
5.000 gr
PW1PCOSOL5
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5PCOSOL5
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5PCOSOL5
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5PCOSOL5
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5PCOSOL5
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamant-Emulsionen Polykristallin (Alkoholbasierend)
Diamond Emulsions polycristalline (alcohol based)
Gewicht
Id. Nr.
Typ
Körnung
Weight
Order No.
Type
Grain size
PW30PCALCDW
20-40 µm
400 gr
PW30PCALCDW
20-40 µm
1.000 gr
PW30PCALCDW
20-40 µm
5.000 gr
PW30PCALCDW
20-40 µm
10.000 gr
PW15PCALCDW
10-20 µm
400 gr
PW15PCALCDW
10-20 µm
1.000 gr
PW15PCALCDW
10-20 µm
5.000 gr
PW15PCALCDW
10-20 µm
10.000 gr
PW9PCALCDW
8-12 µm
400 gr
PW9PCALCDW
8-12 µm
1.000 gr
PW9PCALCDW
8-12 µm
5.000 gr
PW9PCALCDW
8-12 µm
10.000 gr
PW6PCALCDW
5,5-8 µm
400 gr
PW6PCALCDW
5,5-8 µm
1.000 gr
PW6PCALCDW
5,5-8 µm
5.000 gr
PW6PCALCDW
5,5-8 µm
10.000 gr
PW3PCALCDW
2,5-4 µm
400 gr
PW3PCALCDW
2,5-4 µm
1.000 gr
PW3PCALCDW
2,5-4 µm
5.000 gr
PW3PCALCDW
2,5-4 µm
10.000 gr
PW2PCALCDW
1,5-3 µm
400 gr
PW2PCALCDW
1,5-3 µm
1.000 gr
PW2PCALCDW
1,5-3 µm
5.000 gr
PW2PCALCDW
1,5-3 µm
10.000 gr
PW1PCALCDW
1-2 µm
400 gr
PW1PCALCDW
1-2 µm
1.000 gr
PW1PCALCDW
1-2 µm
5.000 gr
PW1PCALCDW
1-2 µm
10.000 gr
PW0,5PCALCDW
0,5-1 µm
400 gr
PW0,5PCALCDW
0,5-1 µm
1.000 gr
PW0,5PCALCDW
0,5-1 µm
5.000 gr
PW0,5PCALCDW
0,5-1 µm
10.000 gr
Diamantsprüheinrichtung Mikrospray I & II
Diamond Metering Unit Mikrospray I & II
Mikrospray I & II sind Sprühgeräte, welche zur automatischen und gleichmäßigen Besprühung von Polierscheiben, -Walzen oder -Bändern mit Diamantsuspension konzipiert wurden.
Durch die präzisen und reproduzierbaren Einstellungen von Dosiermenge und Taktzeit erlauben Mikrospray I &
II in vielen Anwendungen eine Reduktion des Diamantverbrauchs oder der Bearbeitungszeit. Durch die erzielten
Einsparungen lassen sich die Investitionskosten für das Sprühgerät in kurzer Zeit amortisieren.
Die Tröpfchengröße des Sprühnebels lässt sich durch die unabhängige Dosierung von Diamantsuspension und
Sprühluft optimal und reproduzierbar einstellen. Sprüh- und Pausenzeit können am integrierten Taktgeber individuell und in weiten Bereichen eingestellt werden.
Mikrospray II wird zur Vor- und Rückbewegung des Sprühkopfs über der Polierscheibe mit einem pneumatische
Zylinder geliefert.
Mikrospray I & II are spraying and dosing units designed for automatic and reproducible dosage of diamond slurries or suspensions. It is used to spray onto polish plates as well as onto polishing cloths, -tapes, -films and
-pads.
The main advantages of the Micro spray I & III unit over similar dosing devices are its easy integration in automated process lines and the precise adjustment of dosing parameters. In most applications, the optimized dosing
results in a significant reduction of diamond slurry consumption, reduced cycle time, and highly consistent quality
of the polished work piece. The savings in diamond slurries and increased productivity exceed the investment for
the Mikrospray I &II unit after a short time of operation.
Spray and pause times of the polishing cycle are individually adjustable on the built-in timing device. The spray
droplets size can also be adjusted through independent control of suspension feed and spray air, allowing for
optimal polishing conditions for your application.
Micro spray II comes with Pneumatic cylinders for moving the spray head over the polishing plate.
Mikrospray I
Mikrospray II
Interferenzprüfgerät und Poliertisch
Interferometer and Polishing Platen
Beschreibung und Handhabung
des Interferenz-Prüfgerätes
Das Interferenz-Prüfgerät besteht
aus einem Gehäuse, in dessen Unterteil sich ein Transformator zur
Erzeugung der erforderlichen Hochspannung befindet.
Im oberen Teil des Gerätes befinden sich 2 U-Röhren, die mit Heliumgas gefüllt sind und das für die
Prüfung erforderliche Licht erzeugen. Dieser Teil des Geräts ist
schwenkbar und kann somit den
erforderlichen Arbeitssituationen
angepasst werden.
Durch einen Schalter am Seitenteil
des Gerätes wird dieses in Betrieb
gesetzt. Die Interferenz-Prüfung ist
sofort möglich, da Helium gegenüber anderen Gassorten keine Vorglühzeit benötigt.
Die zu prüfenden Werkstücke werden unter den Mittenbereich des Gerätes gelegt, wobei darauf zu achten ist, dass
die zu prüfende Fläche vorher auf dem Poliertisch abgezogen wurde, um eine reflektierende Oberfläche zu erzeugen.
Das Planglas wird nun auf die zu prüfende Fläche aufgesetzt.
Dabei ist die Richtungsmarkierung auf der Mantelfläche des
Glases zu beachten. Wichtig ist ferner, dass zwischen Planmessplatte und Prüffläche ein Luftkeil hergestellt wird, der
Voraussetzung für eine einwandfreie Messung ist. Durch
leichtes Andrücken des Planglases mit dem Finger auf der
linken Seite entsteht ein Interferenzstreifenmuster, das dem
Ebenheitszustand des Werkstückes entspricht (siehe schematische Darstellung).
Bei konkaven oder konvexen Flächen kann die Abweichung
von der Ebenheit genau bestimmt werden. Hierzu muss
ermittelt werden, wie viel Interferenzstreifen durch die eingespiegelte Gerade geschnitten werden. Handelt es sich beispielsweise um 3 Streifen, so beträgt die Abweichung von
der Ebenheit ca. 1 µm. (Die Wellenlänge - halber LambdaWert - beträgt bei Heliumgas ca. 0,3 µm. Dieser Halbwert
entspricht dem Abstand zwischen 2 Interferenzstreifen.) Das
Interferenz-Prüfgerät ist wartungsfrei. Durch häufige Nutzung wird die Gasfüllung der Röhren langsam abgebaut, d. h.
nach ca. 2 Jahren ist ein Austausch erforderlich.
Description and operation of the Monochromatic Light
The monochromatic light consists of
a housing in the lower part of which
there is a transformer for generating
the necessary high tension. In the
upper part there are two U-shaped
tubes filled with helium gas that generate the light necessary for testing.
This part of the tester can be swung
out and can thus be adjusted to suit
the necessary working situations.
The tester is brought into operation by
means of a switch on the side part.
The interference test can be carried
out immediately because helium, unlike
other gases, does not need any warming-up time.
The work-pieces to be tested are
placed underneath the middle part of the tester. It is important to make sure first that the area to be tested has been
cleaned on the polishing table in order to create a reflecting surface. The flat glass is now placed on the area to be
tested. It is important to note the direction marking on the
mantle area of the glass and to ensure that a wedge of air
is produced between the flat measuring plate and the test
area as this is essential for accurate measuring. Light pressure with one finger on the left-hand side of the flat glass
will create an interference stripe pattern corresponding to
the flatness state of the work-piece (see diagram).
If there are any concave or convex areas the deviation from
flatness can be identified exactly. Here it is necessary to see
how many interference stripes are cut through the reflected
straight line. If there are three, for instance, the deviation
from flatness is about 1µm (the wavelength or half-lambda
value of helium gas is about 0.3 µm, and this half-value is
equal to the distance between two interference stripes.)
The interference tester does not need any maintenance. Frequent use will result in the gas filling in the tubes being
gradually reduced, so it will be necessary to replace them
after about two years.
Aufbau des Poliertisches
Construction of the polishing table
Der Poliertisch besteht aus einem stabilen Aluminiumrahmen
mit Handgriffen. Im Oberteil befindet sich eine hochklappbare
Stahlplatte mit geläppter Oberfläche. Über diese Arbeitsfläche wird
das Polierpapier gezogen, das sich
im Behälter unter der Platte als
Rolle befindet. Über die vorhandenen Exzenterwellen wird das
Polierpapier gespannt.
The polishing table consists of a sturdy aluminium frame with
hand grips. In the upper part there is a steel plate that can
be folded upwards and which has
a lobed upper part. The polishing
paper is drawn across this working area; a reel of this paper can
be found in the container underneath the plate.
Das Polierpapier unterliegt einem Verschleiß und muss nach
einer bestimmten Zeit ersetzt werden. (Öffnen der Exzenter
-Abwickeln von weiterem Papier von der Vorratsrolle.)
Der Poliertisch kann für alle Werkstoffe - außer sehr harten
Materialien - verwendet werden. Bei Werkstoffen aus Keramik, Hartmetall, Titan etc. kann die Politur der Oberfläche
nur durch Verwendung einer Handpolierplatte und Diamantpaste erreicht werden.
The paper is drawn taught over the existing eccentric shafts;
it is subject to wear and has to be replaced after a certain
time. (Open the eccentric and unwind more paper from the
reel.)
The polishing table can be used for all materials except the
hardest. In the case of materials made from ceramics, hardened metal, or titanium, etc, the polishing of the surface is
only possible if a hand polishing plate and diamond paste are
used.
Handpolierplatten sind in 2 Größen mit 160 und 300 mm lieferbar - die erforderliche Diamantpaste gibt es in den Körnungen 0 - 2,2 - 4 und 3 - 6 ).1m sowie in den Konzentraten
75 und 100.
Vor dem Abziehen der Werkstücke muss das Polierpapier
geglättet werden. Hierzu wird das neue Papier mit gebrauchtem Papier aufgerauht und anschließend mit Vaseline oder
einer ähnlichen Creme geglättet. Der Poliertisch ist jetzt
betriebsbereit.
Durch das Abziehen der Werkstücke entsteht Materialabrieb, der sich in den Poren des Polierpapiers festsetzt. Zur Erhaltung der Funktion des
Papiers ist es erforderlich, dass die Arbeitsfläche regelmäßig mit Waschbenzin oder einem
ähnlichen Reinigungsmittel abgerieben wird.
Nach Abschluss dieses Vorganges muss das
Polierpapier wieder mit Vaseline geglättet
werden.
Hand polishing plates are available in two sizes, 160 and 300
mm, and the necessary diamond paste is available in grain
sizes 0 - 2.2 - 4 and 3 - 6 (1 metre and in the concentrates
75 and 100.
The polishing paper must be smoothed before the workpieces are drawn off. Here the new paper is roughened with
the used paper and then smoothed with Vaseline or a similar
crème. The polishing table is now ready for operation.
The drawing-off of the work-pieces creates a mineral abrasion that settles in the pores of the
polishing paper. To retain the function of the
paper it is necessary for the working area
to be rubbed down regularly with wash-benzene or a similar cleaning agent. When this
work is finished the polishing paper must be
smoothed again with Vaseline.
Plangläser
Optical Flats
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·
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Ø 25
Ø 25
Ø 50
Ø 50
Ø 75
Ø 75
Ø 100
Ø 100
Ø 125
Ø 125
Ø 150
Ø 150
Ø 200
Ø 200
Ø 250
Ø 250
Ø 300
Ø 300
¼ Lambda - einseitig
¼ Lambda - beidseitig
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single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
·
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·
·
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·
·
·
Ø 25
Ø 25
Ø 50
Ø 50
Ø 75
Ø 75
Ø 100
Ø 100
Ø 125
Ø 125
Ø 150
Ø 150
Ø 200
Ø 200
Ø 250
Ø 250
Ø 300
Ø 300
1/10 Lambda - einseitig
1/10 Lambda - beidseitig
Prüfblöcke
Test blocks
·
·
·
·
·
·
·
·
Messing - Prüfblock / Brass testblock
Ø 50mm
Ø 75mm
Ø 100mm
Ø 125mm
Ø 150mm
Ø 200mm
Ø 250mm
Ø 300mm
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single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
single sided
double sided
Ultraschallreinigungsgeräte
Ultrasonic Cleaning Units
Der ideale Reinigungsprozess nach dem Läppen / Polieren. Die Werkstücke sollten nach dem Reinigen frei
von Abtrag und Fluid sein. Das Ultraschallreinigungsgerät erzeugt in der Flüssigkeit unterschiedliche Druckwellen welche die Verunreinigungen vom Werkstücke
lösen. Ultraschallgeräte reinigen die Werkstückoberfläche nicht nur von sichtbaren sonder auch von feineren
Verschmutzungen.
Schwingwanne
innen
(L x B x H)
Oscillating tray
Inhalt
Gerätetyp
Volume
Model
(L xD x H)
mm
mm
Liter
litre
190 x 85 x 60
0,9
RK 31 H
Außenmaße
(L x B x H)
Outside
Dimensions
(L xD x H)
mm
mm
205 x 100 x 155
The ideal cleaning process when finished lapped, parts
need to be completely free from all residue abrasives
and lapping vehicles. The Ultrasonic cleaning units work
by electronic agitation of a suitable cleaning fluid which
separates the impurities from the items being cleaned.
Not only do Ultrasonic cleaning
units clean the visible surfaces, but also the surface
that cannot be seen.
Ablauf
Kugelhahn
Outlet
Ball valve
Spitzen
leistung
max
Peak
power
Heiz
leistung
Stromauf
nahme
Gewicht
Heating
power
Power
consumption
W/Per.
W/Per.
W
W
A
A
netto
net
brutto
gross
-
120
70
0,5
1,9
2,4
kg
Weigh
kg
t
240 x 140 x 100
3,0
RK 100 H
260 x 160 x 250
-
2 x 160
140
1,0
3,6
4,6
240 x 140 x 100
3,0
RK 102 H
260 x 160 x 250
G ¼“
2 x 240
140
1,2
4,5
5,6
Ø245 x 130
5,6
RK 106
Ø265 x 270
G ¼“
2 x 240
-
0,6
5,5
6,4
500 x 140 x 150
9,0
RK 156 BH
530 x 165 x 300
G ¼“
2 x 300
600
3,4
7,3
8,9
1000 x 200 x 200
39,0
RK 170 H
1050 x 250 x 385
G ¼“
2 x 600
1600
8,3
26,5
69,5
300 x 150 x 150
5,7
RK 255 H
325 x 175 x 305
G ¼“
2 x 320
280
2,0
5,3
6,6
300 x 240 x 150
9,7
RK 510 H
325 x 265 x 305
G ½“
2 x 320
400
2,5
7,6
9,6
325 x 300 x 150
13,5
RK 514 H
355 x 325 x 305
G ½“
2 x 450
600
3,6
8,8
10,8
325 x 300 x 200
18,7
RK 514 BH
355 x 325 x 385
G ½“
2 x 450
600
3,6
9,8
12,1
500 x 300 x 200
28,0
RK 1028 H
535 x 325 x 400
G ½“
2 x 600
1300
7,0
15,4
18,8
500 x 300 x 300
45,0
RK 1028 C
540 x 340 x 500
G ½“
2 x 1000
-
2,2
27,5
31,1
500 x 300 x 300
45,0
RK 1028 CH
540 x 340 x 500
G ½“
2 x 600
1300
7,0
24,4
28,0
600 x 500 x 300
90,0
RK 1050 CH
640 x 540 x 530
G ½“
2 x 1200
1950
11,1
37,0
67,0
Geräteausstattung
Robuste PZT-Großflächen-Schwingsysteme erzeugen im gesamten Schwingwannenvolumen Hochleistungsultraschall. Leistungskonstanz und Frequenzautomatik sorgen unabhängig von der Größe des Reinigungsobjektes immer für optimale Ultraschallverteilung und für reproduzierbare Ergebnisse.
Besonders intensiv durch die vorteilhafte Frequenz von 35 kHz. Alle Geräte sind mit einer Schaltuhr für 1 - 15 min und Dauerbetrieb ausgestattet.
H-Typen werden mit eingebauter Heizung geliefert. Diese ist thermostatisch regelbar von 30 bis 80 °C (RK 31 H mit Heizung 65 °C, fest). Das robuste
Edelstahlgehäuse ist pflegeleicht und tropfwassergeschützt. Alle Schwingwannen aus rostfreiem Edelstahl, ab RK 1028 C aus 1.4571, geschweißt. Ab
RK 102 H mit einem Ablauf zum leichten Entleeren.
SONOREX SUPER Geräte sind funkentstört und mit CE-Kennzeichnung. 230 V, alternativ 115 V, 50/60 Hz.
Instrumentation
Robust PZT wide area oscillating systems generate high performance ultrasonic within the complete oscillating chamber Power stabilisation and frequency automatic ensuring, independently of the size of the cleaning object, always for a optimum ultrasonic distribution and
for repeatable results. Especially intensive through the beneficial frequency of 35 kHz. All units are equipped with a timer for 1 - 15
minutes and continuously operation. H- types are supplied with a build in heater. This heater is thermostatically controlled from 30°C till
80°C (RK 31 H with heater 65°C constant) The robust stainless steel housing is easy-care and drip proof. All oscillating trays are made
of stainless steel from RK 1028 made of 1.4571, welded. From RK 102 H with ball valve for easy drainage.
SONOREX SUPER units are radio-screened and according to the CE marked.
Zubehör
Accessories
Material
Deckel
Head
Einhängekörbe
Insert basket
Einhängekörbe
Insert basket
Gerätehalter
Equipment holder
Einhängewanne
Insert tray
Lochdeckel
Perforated head
Einsatzgefäße 400 ml
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Plattenhalter
Plate holder
Einspritzdüsenaufnahme
Injection nozzle holder
Transportwagen
Transport trolley
Deckel
Head
Einhängekörbe
Insert basket
Einhängekörbe
Insert basket
Gerätehalter
Equipment holder
Einhängewanne
Insert tray
Lochdeckel
Perforated head
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Insert vessel
Plattenhalter
Plate holder
Einspritzdüsenaufnahme
Injection nozzle holder
Transportwagen
Transport trolley
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Glas
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Glas
RK 31 H
RK 100 H
RK 102 H
RK 106
RK 156 BH
RK 170 H
RK 255 H
D 08
D 100
D6
D 156
D7
D 255
K6
Ø218 x 55
K 6 BL
450 x 97 x 50
-
-
-
-
K 08
K3
170 x 65 x 50 200 x 113 x 40
K3P
195 x 115 x 88
K5
260 x 113 x 40
K5P
254 x 96 x 130
-
GH 1
SH 1
-
-
-
-
KW 3
-
-
-
KW 5
DE 08
DE 100
DE 6
DE 156
-
DE 255
KB 04
-
-
-
-
-
-
SD 06
SD 06
SD 06
-
SD 06
-
EB 05
EB 05
EB 05
-
EB 05
-
PD 06
PD 06
PD 06
-
PD 06
-
SD 09
SD 09
SD 09
-
SD 09
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel
-
-
-
-
-
-
-
ED 9
DE 822
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Material
RK 510 H
RK 514 H
RK 514 BH
RK 1028 H
RK 1028 H
RK 1028 CH
RK 1050 CH
D 510
D 514
D 514
D 1028
D 1028
D 50 C
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
Glas
K 10
K 14
K 14 B
K 28
K 28 C
K 50 C
250 x 190 x 50 270 x 240 x 50 270 x 240 x 50 450 x 240 x 50 450 x 240 x 50 540 x 445 x 50
-
-
-
-
-
-
GH 10
-
GH 14 B
GH 28
GH 28 C
GH 50 C
-
KW 14
KW 14 B
KW 28-0
-
KW 50 B-0
DE 510
DE 514
DE 514
ES 4
ES 4
ES 4
-
-
-
-
-
-
SD 06
SD 06
SD 06
SD 06
SD 06
SD 06
Edelstahl
Stainless steel
Kunststoff
Plastic
EB 05
EB 05
EB 05
EB 05
EB 05
EB 05
PD 06
PD 06
PD 06
PD 06
PD 06
PD 06
Glas
SD 09
SD 09
SD 09
SD 09
SD 09
SD 09
-
-
LP 14
-
LP 14
-
ED 9
-
ED 14
-
-
-
-
-
-
TW 40
TW 40
TW 40
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel
Edelstahl
Stainless steel

Lapping Wheels - Peter Wolters

Transcription

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