precios - Von Ardenne

REM-Aufnahme eines Bandpass-Filters auf der Basis Al2O3/ SiO2
(81 Schichten)
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VON ARDENNE
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INDEX
REM-Aufnahme eines Rugate-Filters auf der Basis SiO2/HfO2 mit
sinusförmiger Brechzahlmodulation und über die Probe variierendem
Brechzahlhub (apodisiertes Design)
COMPONENTS
WHO WE ARE & WHAT WE DO.
VON ARDENNE develops and manufactures industrial equipment for vacuum
coatings on materials such as glass, wafers, metal strip and polymer films. These
coatings give the surfaces new functional properties and can be between one
nanometer and a few micrometers thin, depending on the application.
We supply our customers with technologically sophisticated vacuum coating
systems, extensive expertise and global service. The key components are developed
and manufactured by VON ARDENNE itself.
Systems and components from VON ARDENNE make a valuable contribution to
protecting the environment. They are vital for manufacturing products which help to
use less energy or to generate energy from renewable resources.
Our customers use these materials to make high-quality products such as
architectural glass, absorbers and absorber tubes for solar-thermal power plants,
reflectors for lighting systems, displays for smartphones and touchscreens, solar
modules and heat protection foil for automotive glass.
SALES
CONTACTS
SERVICE
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VON ARDENNE GmbH (headquarters) I Plattleite 19/29 I 01324 DRESDEN I GERMANY
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ADVANCED COATING EQUIPMENT
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ENGLISH 03/2016
PRÄZISIONSBESCHICHTUNG
FÜR OPTIK UND SENSORIK
——
——
——
——
——
——
——
——
Kombination von 2 Prozessen (z.B. hochbrechende und
niedrigbrechende optische Schichten)
Gleichzeitige Linearbewegung und Rotation des Carriers
Programmierbare Geschwindigkeitsprofile des PräzisionsLinearantriebes
Stationäre und dynamische Beschichtung möglich
Mitfahrende Substratheizung bis 400°C
Für Substratdurchmesser bis 200 mm
Flanschkonzept zum einfachen Austausch und zur Integration
weiterer Magnetron-Sputterquellen
Nutzbar sowohl als Load-Lock-System als auch in Kombination
mit weiteren Prozessstationen in einer Clusteranlage
1
KOMPLEXES SCHICHTEIGENSCHAFTS-PORTFOLIO
MIT ENGEN TOLERANZEN
5
——
Abscheidung von einigen zehn bis einigen hundert
abwechselnd hoch- und niedrigbrechenden Schichten für
Anwendungen in der Laseroptik, in der Spektroskopie, der
Bildgebung, der Lithographie und der Medizintechnik
2
GENAUIGKEIT VON SCHICHTDICKE UND -VERTEILUNG
(INSBESONDERE IN DER OPTIK)
——
——
——
Präzisionsantriebe für Linearbewegung mit überlagerter
Substratrotation
Kombination mit In-Situ-Monitoring: Ellipsometrie
Feinkorrektur mittels Blendenanpassung
Homogenität < ±0,5%
KURZ- UND LANGZEIT-REPRODUZIERBARKEIT
HOMOGENE BESCHICHTUNG GEKRÜMMTER SUBSTRATE
——
Durch programmierbare Geschwindigkeitsprofile des
Präzisions-Linearantriebes
——
Hohe intrinsische Prozessstabilität im Pulssputterprozess
mit ausgereifter Prozessregelung
Prozessnachführung über Targetstandzeit
TESTERGEBNISSE
System PRECIOS
SCHICHTDICKENHOMOGENITÄT
SiO2
104
+/- 0,5%
ANLAGENKONZEPT
In Kombination mit den zugehörigen Schlüsselkomponenten für die
präzise Substratbewegung, das In-Situ-Monitoring und die Energieeinspeisung
erreicht das System auf Basis reaktiver Magnetron-Sputterprozesse, eine
sehr hohe Konstanz und Reproduzierbarkeit der Schichteigenschaften bei der
Erzeugung von Wechselschichtsystemen.
102
100
98
96
Randabfall der Schichtdicke
Geschwindigkeit v
4
6
8
Radius in cm
2
4
6
8
Radius in cm
Ta2O5
Schichtdicke in %
Konstante Rate und konstante Geschwindigkeit
2
x
104
+/- 0,5%
PRÄZISIONSBESCHICHTUNG FÜR OPTIK UND SENSORIK
Schichtdicke in %
PRECIOS
Das System PRECIOS ist eine anlagentechnische und technologische
Plattform für die Herstellung von Präzisionsbeschichtungen hoher Dichte,
geringer Rauheit und sehr hoher Eigenschaftskonstanz unter Temperatur- und
Feuchtebelastung für verschiedenste Anwendungen der Optik und Sensorik.
102
100
98
96
Vorgegebenes Geschwindigkeitsprofil
Kompensation des Randabfalls
OPTISCHE FUNKTION
Reflektion
18-Schicht Entspiegelung
Geschwindigkeit v
10
8
unbeschichtet
6
x
4
doppelseitig entspiegelt
2
3
6
PRODUKTIVITÄT DURCH HOCHRATEPROZESSE
GERINGES DEFEKTNIVEAU
——
Kostengünstige, flexible Anlage für kleine und mittlere
Chargengrößen
——
Optimierte Sputterquellen ohne Rückstäubzonen
auf den Targets
Pulsstromversorgungen mit sehr kurzen Reaktionszeiten
auf Micro-Arcs (<1µsec)
Schichtmaterialien und Beschichtungsraten:
(mit Doppelringmagnetron DRM400)
AlN
3 nm/s
Nb2O5 4 nm/s
TiO2
2 nm/s
Al2O3 2,5 nm/s
Si3N4 2 nm/s
Ta2O5 3 nm/s
HfO2 3 nm/s
SiO2 4 nm/s
4
TREFFGENAUIGKEIT ALLER EIGENSCHAFTEN
NACH KURZEN EINFAHRZYKLEN
Durch Kombination mit In-Situ-Monitoring – z.B. Ellipsometrie
0
430
In Zusammenarbeit mit:
PROZESSINNOVATIONEN
7
Abscheidung von Misch- und Gradientenschichten auf Basis von
ternären Verbindungen wie z.B. SixOyNz oder SixHf yOz ist möglich
480
Gefördert durch:
530
580
630
680
Wellenlänge in nm